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掩模板的制作方法

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掩模板的制作方法

发布日期:2018-10-22 作者: 点击:

本实用新型涉及一种阵列基板制造过程中所使用的掩模板,尤其涉及一 种适用于多种图案化工序并降低成本的掩模板。
背景技术
近年来,信息通讯领域的迅速发展,提高了各种类型的显示设备的需求。
目前主流的显示器件主要有阴极射线管显示器(CRT),液晶显示器(LCD), 等离子体显示器(PDP),电致发光显示器(ELD)和真空荧光显示器(VFD) 等。其中,薄膜晶体管液晶显示器(TFLLCD)以其高清晰度,真彩视频显 示,外观轻薄,耗电量少,无辐射污染等优点而成为显示器件发展的主流趋
7液晶显示器通常包括用于显示画面的液晶显示面板和用于向液晶显示 面板提供驱动信号的驱动电路部分。通常,液晶显示面板包括第一玻璃基板 和第二玻璃基板,它们彼此粘接在一起并通过液晶盒间隙(CELL GAP)彼 此间隔开。液晶材料层注入到第一玻璃基板和第二玻璃基板之间的间隙中。
在第一玻璃基板(即,薄膜晶体管液晶显示器的阵列基板)上形成有多 条栅极线和多条数据线,其中多条栅极线以固定的间隔彼此分开并沿着第一 方向延伸,而多条数据线以固定的间隔彼此分开并且沿着基本上垂直于第一 方向的第二方向延伸,其中通过栅极线和数据线的相互交叉限定出多个像素 区域,以矩阵方式设置在相应的每个像素区域中的多个像素电极;和多个薄 膜晶体管(TFT),能够响应提供给相应的每条栅极线的信号将来自数据线 的信号发送给对应的每个像素电极。
第二玻璃基板(即,薄膜晶体管液晶显示器的滤色片基板)上形成有黑 色矩阵层(BM),能够防止在像素区域以外的面积中的光泄漏;滤色片层(R, G, B),用于有选择地传输具有预定波长的光;和公共电极,用来实现画面。 在平面开关模式(IPS模式)等水平场模式的LCD装置中,公共电极形成在第一玻璃基板上。
目前,薄膜晶体管液晶显示面板设计中采用的是同一种阵列工艺的产品 使用套件掩模板100实现不同的工艺。
请参阅图1,图1所示为现有的制造阵列基板时所使用的套件掩模板ioo
的示意图。所述套件掩模板100包括用以形成阵列基板上的不同层图案化层
所需要的不同掩模板。在此为了方便说明起见,以薄膜晶体管液晶显示器产 业界普遍采用的五道掩模工序为例。所述五道掩模工序分别对应五个不同的
掩模板。具体而言,套件掩模板IOO包括第一掩模板110,用以在阵列基板 上形成栅极和栅极线;第二掩模板120,用以在阵列基板上形成硅岛层;第 三掩模板130,用以在阵列基板上形成源极、漏极和数据线;第四掩模板140, 用以在阵列基板上形成过孔;第五掩模板150,用以在阵列基板上形成像素 电极、栅焊盘端子及数据焊盘端子。

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